За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого — систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP. Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников.Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP. Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Za poslednee desyatiletie istochniki ICP nashli shirokoe promyshlennoe primenenie, o kotorom poyavilos bolshoe kolichestvo novoy informatsii. Poetomu nazrela neobkhodimost sostavleniya obzora, tsel kotorogo sistematizatsiya osnovnykh eksperimentalnykh rezultatov razrabotki i primeneniya istochnikov ICP. V knige privedeno opisanie printsipov deystviya, osobennostey i preimushchestv istochnikov ICP i rassmotreny mnogochislennye varianty konstruktsiy sovremennykh istochnikov ICP. Privedeny takzhe primery tekhnologicheskikh primeneniy opisyvaemykh istochnikov dlya naneseniya tonkikh plenok: v protsessakh PVD i PECVD. I krome togo, opisano formirovanie plazmokhimicheskim travleniem trekhmernykh struktur v razlichnykh materialakh i dvumernykh struktur v tonkikh plenkakh i svyazannoe s takoy obrabotkoy sushchestvennoe izmenenie svoystv poverkhnostey razlichnykh materialov, v osobennosti poluprovodnikov.Takim obrazom, nastoyashchaya kniga predstavlyaet soboy podrobnoe spravochnoe rukovodstvo po konstruktsiyam i primeneniyu istochnikov ICP. Kniga rasschitana na studentov, aspirantov, konstruktorov novogo tekhnologicheskogo oborudovaniya, ispolzuyushchego istochniki ICP, i tekhnologov, rabotayushchikh na takom oborudovanii. Konstruktory naydut v ney obzor sposobov dostizheniya vysokikh parametrov istochnikov ICP, a tekhnologi oznakomyatsya s shirokim spektrom ikh primeneniya i poluchennykh s ikh pomoshchyu dostizheniy. Ona takzhe budet polezna v kachestve uchebnogo posobiya dlya studentov starshikh kursov i aspirantov sootvetstvuyushchikh spetsializatsiy.
